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薄膜制备技术及工艺

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涉及化学气相沉积，物理气相沉积（真空蒸发，离子镀，溅射沉积……），等离子体增强化学气相沉积及其他表面改性技术，以及靶材的相关问题…………。
子分类： 【evaporation】 【sputtering】 【离子镀】 【CVD】 【PLD】 【ALD】 【MBE】 【离子束】 【喷涂】 【其他】

版主: wfbgc,chengfuxu,estelle,leejess

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