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新靶问题
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2011-09-07 02:07
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只看楼主
多弧设备,一个平面靶330*170*28,每次换上新靶总会引弧困难,烧靶时偏压上下起降,不稳定,等靶材用过一段时间才开始稳定,冷却跟绝缘是没问题的,请问在新靶材刻蚀前期有没有好的办法能使其偏压稳定呢?提高靶电流与气压有用吗?
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2011-09-07 08:08
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只看该用户
请问靶材材料是?
用过一段时间,是多久?
有没有可能是磁场的关系或者靶材有问题
AIP
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2011-09-07 12:28
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只看该用户
平面弧靶的话,28mm的厚度可是够厚的呀。往这里考虑一下吧。
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2011-09-07 17:58
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只看该用户
靶材很重要啊。
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rill88888
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2011-09-07 19:01
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只看楼主
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2楼
jonathanhan
的帖子
用的钛靶与粉末铝钛新靶都有这问题,大概靶材刻蚀用到凹下去点才慢慢开始稳定,我们靶材磁场设计是一个磁铁在中间转,请问磁铁与新靶材之间距离是不是调节近一点,这样磁场相对要好点?
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2011-09-08 08:46
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5楼
rill88888
的帖子
可以尝试调节下
就只有这两种靶材会出现这种问题么?
别的靶材在相同厚度的时候如何?
AIP
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2011-09-08 18:33
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靶材表面磁场强度是多少?有没有数据?
恰似猛虎卧沙丘,潜伏爪牙忍受。
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2011-09-09 09:48
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计算一下凹蚀下去的靶材表面积,推算电流密度,在新的靶材的时候适当坐下工艺参数的调整。看看有没有好转。
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