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薄膜厚度测量方法
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2009-03-27 20:27
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1、测量原理 2、样品要求 3、测厚范围 4、精确度
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coatingdata团队
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2009-03-27 20:36
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我刚把这些方法都大略的看过了,做了个笔记总结
擅长领域:MOCVD,ALD,PLD等薄膜制备技术工艺开发,关注领域LED外延工艺技术与芯片制程技术,MO源合成技术,多晶陶瓷靶材制备技术,热电材料的研究与开发。
欢迎大家加入论坛与我们交流薄膜技术。
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2009-03-27 20:41
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回复 1# coatingdata 的帖子
1、SEM/TEM,直接测量 2、样品必须制备成截面的,最好是对接膜的! 3、一般SEM的测厚范围为几百nm到微米量级,而TEM的测厚范围是几十nm到微米 4、精确度不好评测,和放大倍数有关!要比较厚度,最好放大倍数一致。
coatingdata团队
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回复 2# wudong863 的帖子
总结在哪里啊?
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破坏性测量, 不好
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回复 1# coatingdata 的帖子
谢谢楼主,辛苦
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谢谢楼主,学习了
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介绍一下好不好啊
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谢谢楼主,学习了
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谢谢楼主,帮顶了
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我们常讲的薄膜厚度一般在10埃到100微米之间。它们在工业上的用途非常广。它们的制程也有多种。薄膜必须拥有适当的厚度,组成,粗糙度,及别的特性才能起到它应有的功用。我这里简单介绍两种薄膜厚度和光学特性的检测方法。 光学检测技术通过测量薄膜与光发生的相互作用来确定它的特性。光学技术可以测量薄膜厚度,表面粗糙度,和光学常数。光学常数(折射率 n 和消光系数 k)则是用来描述光在一个材料内的传播和在材料界面上的反射。 薄膜检测方法中的首选应该是光学测量技术。因为它们既准确无损,而且不需要花大量时间来准备样品。两种最常见的光学测量技术是光谱反射仪和椭偏仪。 光谱反射仪通过测量在一定波长范围内垂直光反射的强弱。椭偏仪也很类似。只是它的入射光和反射光都与样品表面不垂直。并且用两个偏光。一般来讲光谱反射仪比椭偏仪要简单和便宜。并且容易操作,维修简单。特别是在线测量时光谱反射仪更能显示出它的优势。 在绝大多数薄膜测量情况下光谱反射仪和椭偏仪都可以测量厚度,表面粗糙度,和多种薄膜的光学常数。只有在薄膜特别薄(<3nm)或者结构层次特别复杂的情况下你就只好花大钱来买椭偏仪用了。 以上内容主要来自Filmetrics 公司的《薄膜测量的解密》。请直接到公司网站索取更详细的资料:
http://www.filmetricsinc.cn.
liu8209 最后编辑于 2009-08-22 15:38:29
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学习了! 谢谢
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又学到不少知识了;
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椭偏仪这是一个很不错的东东
QQ:67330418
Email:wolf.liuf@163.com
求真务实!
不以求备取人,不以己长格物!
黜虚名以求实效,存实绩而图奋进。
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镀膜中可以用晶振片测量,利用晶体传感器来测量薄膜厚度,也可以用光学测量的方法,测量透过 镀膜后好像只可以用光学测量(非破坏性测量)
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台阶仪也可以测膜厚 原理类似于原子力显微镜,不过没有那么精密,通过扫描界面的高低(台阶)差来确定膜厚,所以需要一个无膜区来对比,算是破坏性测量。如果台阶明显,其精度很高,而且不需要知道材料的光学常数。 还有一种和台阶仪的原理类似,不过是通过对比不同高度界面的反射光来确定膜厚,也需要有个鲜明的‘台阶’,精度好像不如上面所的光谱反射仪,可能主要用于较厚膜的测量。
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我们常用台阶仪测厚度
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有关于这方面的资料么,能学习一下吧
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推荐一个叫NKD薄膜分析仪的仪器 与椭偏仪类似,但是比椭偏仪便宜、简单 在同一个光斑处,同时对透过光谱和发射光谱进行测定,保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱,全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。 可以测至多5层的薄膜,薄膜厚度范围是5nm到20um,对样品基本没有要求,透明的、半透明的或半吸收的、以及半导体都可以测量
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。。。。。。。。。。。。。VSM
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1. 台阶仪。 精度一般,爬坡测量更好一些。 2. 椭偏测量法。 精确度高,一般先用台阶仪粗测一下,再用椭偏仪拟合。 3. 透射光谱或者反射光谱包络线法。 简便易行。
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学习了,很不错!谢谢!
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感觉像标题党?不好意思哦楼主,我实在没看到什么特别的东西
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我也没有看到很多东西
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椭偏仪并不好用,跟拟合模型有关。比如薄膜表面有无粗糙层,薄膜和衬底之间有无渗透层,很难说有还是没有。
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学到不少东西。
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