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[sputtering] 如何用磁控溅射沉积铁磁性薄膜 [复制链接]

orimat
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orimat

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t T
发表于 2009-04-30 11:47 |只看楼主
各位高手，在功能膜中有一类需求是用磁控溅射沉积铁磁性的薄膜。普通Ni,Co还相对好些，Fe靶就难对付的多。请有经验的高手指点一二吧。
最后编辑estelle 最后编辑于 2009-04-30 22:53:02
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徐健
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jasonmax02
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2#
t T
发表于 2009-04-30 11:52 |只看该用户

我也问了一个差不多的问题。磁性物质貌似很难溅射上去
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orimat
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orimat

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3#
t T
发表于 2009-04-30 13:55 |只看楼主

导磁材料做靶材最大的问题是背后的磁场无法按照设计要求到靶面，导致磁控溅射无法正常进行。但是也不是完全不能，我也自己设计过专用的靶，但是效果不是很理想。
徐健
北京东方新材科技有限公司
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flashxu0119
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t T
发表于 2009-04-30 20:25 |只看该用户

纯Fe靶要厚度很薄才行，大概在1.5mm左右，再厚了就很难起辉，或者起辉气压要很大。
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estelle
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t T
发表于 2009-04-30 22:20 |只看该用户

可以掺少量的非磁元素吗？例如V
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jasonmax02
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t T
发表于 2009-04-30 22:35 |只看该用户

我估计很薄都没用，阴极背后不都有一块铁板吗？作用就是用来短磁的！不是薄就行的！
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estelle
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t T
发表于 2009-04-30 22:47 |只看该用户

不是有专门做磁性材料的靶枪吗？
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t T
发表于 2009-04-30 22:52 |只看该用户

为什么放在ALD子目录？ 我给你改改啊
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hill1121
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t T
发表于 2009-05-04 23:22 |只看该用户

这个问题国外已经解决，针对某种特定材料所设计的阴极。 见附件！ 欢迎交流，ivan_huang1121@hotmail.com
附件:您需要登录才可以下载或查看附件。没有帐号? 注册
最后编辑hill1121 最后编辑于 2009-05-04 23:31:18
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whzg
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t T
发表于 2009-05-09 21:59 |只看该用户

应该用电磁靶位溅射沉积可以实现
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wukeyue
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发表于 2009-06-16 23:30 |只看该用户

学习了，谢谢分享
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yupo54
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发表于 2009-07-09 22:42 |只看该用户

其实可以在溅射环两侧开一些对称的孔，减少FE对磁场的减弱
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yupo54
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发表于 2009-07-09 22:42 |只看该用户

就是靶正对磁铁的地方打眼
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fuzq1970
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发表于 2010-07-20 16:10 |只看该用户

谢谢楼主分享！
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xiangdongt
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发表于 2010-07-30 17:00 |只看该用户

用RF电源做就可以了
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发表于 2010-08-01 20:45 |只看该用户

挣积分啊！挣积分啊！挣积分啊！挣积分啊！
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hzcc
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t T
发表于 2010-08-06 19:35 |只看该用户

印象中，磁性材料采用永磁靶溅射比较好。
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朱朱
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发表于 2010-10-22 10:37 |只看该用户

不是有专门做磁性材料的靶枪吗？
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