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Si片的清洗和处理方法--去除氧化层 [复制链接]

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Si上外延生长薄膜通常上面的一层SiO2的去除非常关键,而完全的消除其影响是不可能的,我们只能减小其影响。方法如下:
1。基片清洗:除常规的酒精丙酮去离子水超声外,还要用到双氧水+盐酸和双氧水+氨水的两种酸碱溶液,此外稀释的氢氟酸中浸泡几秒钟可以有效的去除SiO2层。
2。真空热处理:Si片高真空下2小时500度左右退火,有效减少SiO2.
文献中有报道,参考之。
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对于一般的衬底,清洗分为三部分:a)丙酮超声清洗5分钟;b)无水乙醇超声清洗5分钟;c)去离子水中超声清洗5分钟。
然后在热板(约120℃)上烘烤约10分钟。
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为了提高膜与钢等金属材料基体的结合力,通常还可以在真空室中,使用载能离子溅射清洗。

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薄膜材料物理
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谢谢,指教。
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领会!!
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学习

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学习
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[em02]

thanks for sharing

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thank you for you sharing ,i really appreciate your kindness
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谢谢分享!!希望多发一些具有基础知识的帖子,对我们这些刚入门的比较有用
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不太同意二楼的观点,第2、3是不是调换一下更好啊

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很详细,值得参考
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非常感谢分享!
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谢谢大家的分享,还有没有其它基体清洗方法
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THANK YOU VERY MUCH
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大家是应该多交流交流啊
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对于滤光片怎么处理啊?
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浓硫酸 双氧水 煮就行了
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对于一般的衬底,清洗分为三部分:a)丙酮超声清洗5分钟;b)无水乙醇超声清洗5分钟;c)去离子水中超声清洗5分钟。 然后在热板(约120℃)上烘烤约10分钟。
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一般 用超声波吧 呵呵
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大部分还是靠超声波来清洗的。最后加热烘烤不知道是什么原因?
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主要还是用丙酮和酒精进行超声清洗,当然有离子溅射清洗更好。
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谢谢,非常实用!!
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领会!!
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学习!!!! !!!!!!!
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学习了,谢谢
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恩   希望大家多发这样的帖子  受益匪浅
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回复 9# 人随风 的帖子

学习了,谢谢大家
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学习了,谢谢大家!!!   有个问题,要是我在衬底上镀了一层金属膜,然后我还要在层金属膜上再镀别的膜,在第二次镀之前,衬底还是需要清洗(衬底转移过程中会被污染)。问题:一开始镀的金属膜 与基体结合不是很好,超声会剥落,有什么办法 可以解决吗???谢谢了!!!
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