近年来表面科学与技术迅猛发展，各种表面改性技术层出不穷，为材料的表面改性，提高材料的综合性能提供了巨大的空间。其中，气相沉积技术是其中的主力军。所谓气相沉积技术是利用气相中物理、化学等反应过程，在工件表面形成具有特殊性能的涂层的方法。
气相沉积技术分为两大类：
1）物理气相沉积（physical vapor deposition，简称PVD）
PVD沉积技术包括真空蒸镀，各种离子镀，各种溅射镀。这些技术在wjwels的大作里已经介绍得非常详细，我就不在介绍了。如果大家在这方面还有什么疑问，可以提出来，共同讨论。
2）化学气相沉积（chemical vapor deposition，简称CVD）
CVD包括常压CVD，低压CVD，光CVD，金属有机化合物热分解CVD以及PECVD(plasma enhenced CVD，也叫plasma assisted CVD)。我打算主要介绍PECVD。
大家感兴趣的话，我准备把气相沉积技术做个小结，请大家多提意见！
[此贴子已经被作者于2007-3-31 10:09:36编辑过]
冀ICP备11007783号-1
