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中德国际学术研讨会（AVT2010）2010年8月29-31日（第一轮通知）真空界盛会

hfvac

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2010-03-25 08:57 | 只看楼主 树型| 收藏| 小中大 1^#

中德国际学术研讨会（AVT2010）2010年8月29-31日（第一轮通知）真空界盛会

中德国际学术研讨会（AVT2010）
——2010年真空技术在光电材料与器件中的应用

Application of Vacuum Technologies for photovoltaic systems, flat panels and solid-state lighting：

Workshop of German and Shanghai Vacuum Societies

为了推进我国的真空科学与技术的进一步发展，加强与国际真空界，特别是与发达国家的真空界的交流和合作，中国真空网和上海市真空学会借助于德国真空学会理事长F. Richter教授，2009年5月在上海进行学术交流的机会，邀请F. Richter教授访问了中国真空网，并且就中德双方在真空领域的合作进行了深入和富有建设性的讨论。双方确定，利用2010年8月在北京召开第十八届国际真空大会，世界各国真空界的精英将赴中国参会的契机，举办以中德科学家为主的国际学术研讨会（简称AVT2010）。
经过中国真空网、上海市真空学会和德国真空学会半年多的精心筹划，决定以当前国际新材料、新器件的研究热点——真空技术在光电材料与器件中的应用为主题，于2010年8月下旬在上海举办中德学术国际研讨会（AVT2010）。
届时将邀请该领域的著名科学家和行业领军人物为大会作学术报告，与会者可以在第一时间获悉真空科技和光电材料与器件在国际上的最新动态和发展趋势，了解该领域的科学研究和工业应用的潜在的广阔前景，以指导和把握今后理论和应用研究的方向。
大会召开之际，正值2010年世博会在上海展览之时，这也是向国际同行、各界友人展示包括中国科学家在内的中国人民的良好的精神风貌和对各国朋友热情友好的态度的大好机会。因此，大会必将在学术交流、科研合作、高新技术的项目开发和与各国的友好往来诸方面取得丰硕的成果。

会议介绍
会议名称：
2010年真空技术在光电材料与器件中的应用
——中德国际学术研讨会（AVT2010）

会议期间：
2010年8月29~31日
会议地点：
上海华东师范大学科学会堂(上海市中山北路3663号)
主办单位：
中国真空网www.chinesevacuum.com
CVC
德国真空学会
DVG
上海真空学会
SVS
承办单位：

华东师范大学

上海科学院
SAST
协办单位：

上海市电子学会
SIE

上海太阳能电池研究与发展中心
SCPV

大会议题及演讲人：
会议议题1: AR & passivation layers for Si-PV
Dr. Alexander Lawerenz, CiS Research Institute Erfurt, Germany

会议议题2:
CIGS and CdTe layers
Prof. Dr. Karsten Ronning, Universität Jena, Germany

会议议题3: Si photovoltaics
Dr. Frank Fenske, Helmholtz-Zentrum, Berlin, Germany

会议议题4: Industrial magnetron sputtering for thin film photovoltaics
Dr. Johannes Strümpfel, Chief Scientist, von Ardenne Anlagentechnik, Dresden, Germany

会议议题5: Organic films for OLEDS and organic PV
Prof. Dietrich R.T. Zahn, German Physical and German Vacuum Society, Germany

会议议题6: MOCVD of compound semiconductor and nitride films for LED
Prof. Dr. Michael Heuken, Vice President Corporate R&D, Aixtron, Aachen, Germany

会议议题7: TCO films for PV and flat panels
Prof. Dr. Frank Richter, Chemnitz Univ. of Technology, Germany

相约AVT2010 未来有你掌控
²打通企业发展“任、督”二脉
由中国真空网、德国真空学会及上海真空学会共同主办的AVT2010将以国际化的形式、产业最核心的内容探讨及全球化企业的参与，真正为中国真空行业光电材料与器件领域打通“任”、“督”二脉。 产业核心技术研讨谓之“任”，企业产业化运营谓之“督”。此次中德国际学术研讨会中，主办方不仅邀请了世界真空业界科技研发领军人物Frank Fenske、Alexander Lawerenz、Karsten Ronning、Dietrich R.T. Zahn、Johannes Strümpfe及Frank Richter等博士，更邀请了德国真空领域企业实干家Michael Heuken，相信他们的科技头脑必会带领您攀登行业更高峰；他们的产业化企业运营思维更将激发您事业无限大的绚烂火花。
²企业亮相精品展，政府领导采风
AVT2010会议期间将举办真空领域光电材料与器件的精品展。展会期间，国内真空行业政府相关领导也会莅临参观，各大企业更可自由展示企业风采！
²沟通零距离，国际巨头激越你的头脑风暴
另外，会议还设有论文展示及口头报告程序，为行业投稿人提供展示自我和国际交流的平台。

主办方的影响力
²中国真空学会官方网站
²第十八届国际真空大会展览会唯一指定网络宣传媒体
²全球真空行业顶尖科技学会——德国真空学会
²国内真空行业活跃科技学会——上海真空学会

会议注册

会议（包含午餐、茶歇、晚宴和2010上海世博会门票）
2010年7月1日前		2010年7月1日后
学生	非学生	学生	非学生
1600元	2600元	1800元	2800元

缴款方式

请在2010年8月15日前将全部款项汇款至以下帐户：

1.国内账号

除现场注册交费外接受银行汇款，不接受其它汇款方式，手续费自理。银行汇款请汇至下列帐号
收款单位：上海市真空学会
帐号：1001261809014407965
开户行：022618—工行静安支行曹家渡分
汇款时请注明"AVT2010"。会务费发票在大会报到时统一开。
* 备注：缴付费用，请勿扣除邮资及手绩费等。

2.外汇账号

Payments for registration must be made in US dollars. Advance payments will be accepted through transfer to the following account:
BENEFICIARY
NAME: Shanghai Huifeng Vacuum Equipment Technique Co., Ltd.
BENEFICIARY
A/C NO .: 316560-00200613799
BENEFICIARY ADDRESS: 1604 Yanxing Mansion, No. 10, Lane 1306, Jiangning Rd.,
Shanghai 200060, China
BANK’S

NAME:
BANK OF SHANGHAI
BANK’S
SWIFT CODE:
BOSHCNSH

Please indicate Registration Fees for AVT2010 and mention the name(s) and organization(s) of the participant(s). All bank charges must be covered by the transmitter. The receipt will be provided on-site at the conference.

联系方式
会务部
联系人：杨翠玉 (0)133 1187 8871
电话：021-62778259；62463311
传真：021-62463350
E-mail：webmaster@chinesevacuum.com

联系人：计华群 (0)189 3970 8871
电话：021-62463311；
传真：021-62463350
E-mail：qh@chinesevacuum.com

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hfvac 最后编辑于 2010-03-25 09:09:21

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殘餘人生

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2010-03-26 05:44 树型| 收藏| 小中大 2^#

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hfvac

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2010-03-26 09:30 | 只看楼主 树型| 收藏| 小中大 3^#

这么早就来踩点

楼上的朋友这么早就来踩点了啊
多谢捧场：）

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hfvac

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2010-03-30 12:54 | 只看楼主 树型| 收藏| 小中大 4^#

中德国际学术研讨会（AVT2010）德国顶尖真空行业专家介绍

Dr. Frank Fenske received the M.S. and Ph.D. degrees in physics in 1974 and 1980, respectively. From 1974 to 1981 he worked on interface problems in MIS structures at the Academy of Sciences. Later he focused research on silicides and multilayer contact systems to silicon. Since 1991 he has been with the Hahn-Meitner-Institut Berlin (now Helmholtz-Zentrum Berlin), where he is working on a variety of problems related to the physics and technology of silicon based thin film solar cells. Areas of special interest are properties of transparent conducting oxides and absorber films in close relation to their preparation conditions by physical vapour deposition techniques.

Prof. Dr. Michael Heuken, born Oberhausen, Germany, 17 Nov. 1961. Dipl.-Ing./Dr.‑Ing. degree in Electrical Engineering, Duisburg University, Germany in 1985/1989. Senior engineer, RWTH Aachen (IHT), in the field of metalorganic vapor phase epitaxy for electronic and optoelectronic devices. 1994 finished Habilitation in semiconductor technology and devices with a thesis on ZnSSe based optoelectronic devices. Since 1997 joined AIXTRON AG Aachen, Germany, presently as Vice President Corporate Research and Development. 1999, honored as Professor at RWTH Aachen. Author and co-author of more than 400 publications. President of DGKK from 2002 to 2005, Councilor of IOCG (International Organization of Crystal Growth) representing Germany, board member of EPIC (European Photonics Industry Consortium), board member of OptechNet e.V and member of VDE/ITG. Referee for international journals. Several granted patents in the field of MOVPE technology.

Dr. Alexander Lawerenz is head of the photovoltaics department at the CiS Research Institute for Microsensors and Photovoltaics in Erfurt, Germany. He studied physics at the Universities of Konstanz and Hamburg. In 2002 he achieved his PhD degree in Freiberg, Germany with a thesis on the interaction of dislocations and oxygen and their influence on carrier recombination in multicrystalline silicon. One year later he joined the CiS Forschungsinstitut working on the fields of mechanical and electrical properties of silicon wafers and on process engineering of silicon solar cells.

Prof Dr. Frank Richter is Professor of Solid State Physics at Chemnitz University of Technology, Germany. After obtaining his PhD in 1974, he worked for 15 years at the Institute for Semiconductor Physics (IHP) in Frankfurt (Oder), Germany, and did research in microelectronic technology, particularly silicon epitaxy and silicides for intereconnects and contacts. In 1989, he moved to Chemnitz University. Since then, his scientific interest has been directed towards plasma-assisted thin film deposition and surface engineering. Current activities are focused on in-situ characterization of pulsed plasmas, process modeling, and mechanical characterization of thin films. He has published more than 100 refereed articles in high-level international journals as well as book chapters. Prof. Frank Richter is presently the President of the German Vacuum Society and is an elected member of the Review Board of Condensed Matter Physics of the German Research Foundation.

Prof. Dr. Carsten Ronning is full professor and currently director of the Institute of Solid State Physics at the Friedrich-Schiller-University of Jena, Germany. He studied physics at the Universities of Bremen and Konstanz, and completed his PhD thesis entitled “Diamond-like materials prepared via mass selected ion beam deposition” in 1996. After holding a post-doc position at the North-Carolina State University (USA), he performed intense research at the University of Göttingen on thin films, semiconductor physics as well as on semiconductor nanowires. His position today at the University Jena includes the heading of a Photovoltaics group specialised on the preparation of CdTe and CIGS thin film solar cells.

Dr. Johannes Struempfel is working as Chief Scientist at VON ARDENNE Company in Dresden. This company which enjoys a long tradition is a leading manufacturer for industrial vacuum coating equipments globally. Particularly focused on large area coatings deposited on glass, metal strips and webs VON ARDENNE applies PVD technologies for production using magnetron sputtering and high-rate electron beam evaporation. After his studies at Dresden Technical University, Dr. Struempfel was graduated as physicist. Since more than 35 years he is working at VON ARDENNE in both Thin Film and Plasma Technologies. He is specialized in advanced developments of optical coatings for large area applications. In a very early stage he realized the control of highly productive reactive sputter processes for deposition of low and high index oxides. His particularly experiences are related to transparent conductive oxides TCO and cleaning of surfaces by plasma impact respectively. As an author of numerous papers and publications Dr. Struempfel is committed to several conference committees or boards within the international and German plasma community.

Prof. Dr. Dietrich R. T. Zahn
Dietrich R. T. Zahn received a diploma in Physics from the RWTH Aachen in 1986 and a Ph.D. in Physics from the University of Wales Cardiff in 1988. After a post-doc period at the Technical University in Berlin, he became Professor of Semiconductor Physics at the Chemnitz University of Technology in 1993. His research focuses on the spectroscopic characterization of semiconductor interfaces and thin films, with particular emphasis on organic/inorganic hybrid systems, low dimensional systems, e.g., quantum dot superlattices, as well as advanced interconnects in micro-/nanoelectronics. He is author or co-author of more than 400 related publications. Since 2006 he has been chairman of the Thin Film Division of the German Physical Society and Vice President for Research at the Chemnitz University of Technology.

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hfvac

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2010-04-12 11:19 | 只看楼主 树型| 收藏| 小中大 5^#

中德国际学术研讨会（AVT2010）组委会

大会荣誉主席		俞立中钮晓鸣		华东师范大学校长上海科学院院长

大会主席		Frank Richter		Prof. Dr.,Chemnitz Univ. of Technology, President of GVS, Germany

大会执行主席		孙卓		上海市真空学会理事长、纳光电集成与先进装备研究中心主任、华东师范大学教授

国际咨询委员会
主席	侯建国		中国科学院院士、中国科技大学校长、中国真空学会理事长
成员	Frank Fenske Alexander Lawerenz Carsten Ronning Dietrich R.T. Zahn Michael Heuken Johannes Struempfel 褚君浩许宁生		Dr.，Helmholtz-Zentrum, Berlin, Germany Dr.，CiS Research Institute Erfurt, Germany Prof. Dr.，Universität Jena, Germany Prof. Dr.，Joint Thin Film Division, German Physical and Vacuum Society. Prof. Dr.，Vice President Corporate R&D, Aixtron, Germany Dr. Chief Scientist, Von Ardenne Anlagentechnik, Germany 中国科学院院士、上海太阳能电池研发中心主任中国科学院院士、中山大学副校长、中国真空学会副理事长

组委会
荣誉主席		陈群张文军		华东师范大学副校长上海交通大学副校长、上海市电子学会理事长
主席		惠进德		中国真空学会常务理事、中国真空网站长、上海惠丰石油化工有限公司董事长
成员		陈国荣		复旦大学教授、上海真空学会常务理事
		龙沪强		上海交通大学教授、上海市电子学会办公室主任
		严学俭		复旦大学教授、中国真空网顾问

大会秘书		（会务）杨翠玉计华群		中国真空网副站长中国真空网企划
		（会议）潘丽坤陈晓红		华东师范大学副教授华东师范大学副研究员

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timoshenko

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2010-05-01 21:10 树型| 收藏| 小中大 6^#

看看到时候能不能去

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hfvac

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2010-05-19 14:06 | 只看楼主 树型| 收藏| 小中大 7^#

欢迎莅临参会

楼上的朋友，请尽力抽空光临AVT2010，机会难得~~

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学海无涯

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2010-05-30 15:29 树型| 收藏| 小中大 8^#

哈哈！～

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hfvac

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2010-06-11 09:47 | 只看楼主 树型| 收藏| 小中大 9^#

口头报告征集令/团队优惠畅游世博（第二轮惊喜通知）AVT2010.8.29-31

1.
光伏行业从中国制造到中国创造的路有多远？

2.
除了国际贸易和国内政府支持拉动内需，光伏产业发展究竟路在何方？

3.
平板显示，LED，半导体研发、产业化何时能追上国际发展快车？

4.
一天内同时跟九位SOLAR、FPD、LED行业牛人对话的机会有多少？

5.
2010世界博览会最有科技魅力的是哪些地方？

顶级SOLAR、FPD、LED国际盛会AVT2010（第二轮惊喜通知）-上海世博行2010.8.29-31

得到赞助企业的大力支持，AVT2010组委会为更多的嘉宾及学生提供此次国际交流的良机，现推出团队注册优惠：

7月1日前报名并交纳费用者，嘉宾四人同行享团体优惠价RMB2,080.00元/人；

学生四人同行享团体优惠价RMB1,200.00元/人。

7月1日后报名并交纳费用者，嘉宾四人同行享团体优惠价RMB2,240.00元/人；

学生四人同行享团体优惠价RMB1,350.00元/人。

中德国际学术研讨会（AVT2010
）

——真空技术在光电材料与器件中的应用

邀请函

Application of Vacuum Technologies for Photovoltaic Systems,

Flat Panels and Solid-State Lighting：

(International Workshop 2010)

2010年8月29日-31日

议题设置

AVT2010会议涉及光电材料与器件的各个领域以及其应用，主要包括专题：

真空技术在平板显示（LCD、TFT、OLED）的应用
真空技术在半导体照明（LED）的应用
真空技术在太阳能电池 (晶体硅、非晶硅、CIGS等)的应用

Tutorial

会议交流语言为英文

1、题目：Si photovoltaics--Si光伏电子学

报告人：Dr. Frank Fenske, Helmholtz-Zentrum, Berlin, Germany

2、题目：AR & passivation layers for Si-PV--用于光伏电子学的AR（阵列）和钝化层

报告人：Dr. Alexander Lawerenz, CiS Research Institute Erfurt, Germany

3、题目： CIGS and CdTe Photovoltaics--铜铟镓硒薄膜太阳能电池和碲化镉薄膜

报告人：Prof. Dr. Carsten Ronning, Universit?t Jena, Germany

4、题目：Organic films for OLEDS and organic PV—用于OLEDS和有机PV的有机薄膜

报告人：Prof. Dietrich R.T. Zahn, Speaker, Joint Thin Film Division, German Physical and Vacuum Society.

5、题目：MOCVD of compound semiconductor and nitride films for LED—用于化合物半导体和氮化物薄膜的化学气象沉积工艺

报告人： Prof. Dr. Michael Heuken, Vice President Corporate R&D, Aixtron, Germany

6、题目：TCO films for PV and flat panels—用于PV和平板显示的透明导电氧化物

报告人：Prof. Dr. Frank Richter, Chemnitz Univ. of Technology, Germany

7、题目：Industrial magnetron sputtering for thin film photovoltaics—用于薄膜PV的工业磁控溅射设备

报告人：Dr. Johannes Strümpfel, Chief Scientist, von Ardenne Anlagentechnik, Germany

8、题目： Development and application of Thin film solar cells in China—薄膜太阳能电池和平板显示技术的应用和发展

报告人：
褚君浩教授，中科院院士，中科院技术物理所/华东师范大学

9、题目：
Application and Industrialization of White light LEDs—白光LED的应用和发展

报告人:
孙卓教授，华东师范大学

会议设置：1、口头报告，名额有限，欢迎提前申报审核；

2、部分优秀论文将在会议宣传墙上粘帖，粘帖报告作者另行通知。

会议注册

注册费用（包含资料费、会议费、大会会刊、餐费、世博会门票），住宿费用自理。
类别	2010年7月1日前		2010年7月1日后
国内	嘉宾 RMB2,600.00	学生 RMB1,600.00	嘉宾 RMB2,800.00	学生 RMB1,800.00
Abroad	Guest USD450.00	Student USD 250.00	Guest USD 500.00	Student USD 300.00

7月1日前报名并交纳费用者：嘉宾四人同行享团体优惠价RMB2,080.00元/人；

学生四人同行享团体优惠价RMB1,200.00元/人。

7月1日后报名并交纳费用者：嘉宾四人同行享团体优惠价RMB2,240.00元/人；

学生四人同行享团体优惠价RMB1,350.00元/人。

缴款方式

除现场注册交费外接受银行汇款，不接受其它汇款方式，手续费自理。银行汇款请汇至下列帐号

收款单位：上海市真空学会
帐号：1001261809014407965
开户行：022618—工行静安支行曹家渡分

汇款时请注明"AVT2010"。会务费发票在大会报到时统一开具。

中德国际学术研讨会-AVT2010另设有精品展，欢迎各企业莅临参展

参展内容及费用

半导体照明及应用、照明电器；LED工业装备、材料器件与模块；LCD/PDP/OLED面板/模块/原料/组件；硬化树脂、各向异性导电膜、LCD金属框、线路板/柔性线路板、引线端子、清洗材料、触摸屏、其它原料等；平板电视、移动显示产品与数字视听产品；光伏生产设备、电池、相关零部件；光伏应用产品、工程及系统

中国厂商展位价格
RMB 10,000.00

国外厂商展位价格
USD 2,000.00

投稿快捷专刊优先发表

摘要提交
2010年7月1日
论文提交
2010年8月1日

欢迎作者提交论文。论文全文一般不超过6页，超过部分需加收版面费。摘要需用中、英文书写，论文书写中文或英文都可，请在大会网站www.AVT2010.com在线投稿。提交时请注明“AVT2010论文”字样。通过审核的论文在著名学术杂志集中发表（审稿费及版面费自理）。

请联系会议部：潘丽坤陈晓红 021-62234132
E-mail：asid07@vip.citiz.net

会务部联系人：杨翠玉
计华群
蒋莉华

E-mail: AVT2010@126.com 和 webmaster@chinesevacuum.com

联系方式：(0)13311878871
(0)15900958331
(0)18939778259
086-021-62463311

研讨会详情 请登录www.AVT2010.com 和 www.chinesevacuum.com 查询