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[sputtering] 烘烤对薄膜是否有影响？ [复制链接]

hzcc
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t T
发表于 2010-06-12 21:24 |只看楼主
请问磁控溅射镀膜前开烘烤抽真空对薄膜是否会有影响？谢谢。
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fuzq1970
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t T
发表于 2010-06-12 22:28 |只看该用户

应该影响很大的。
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KUKE
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t T
发表于 2010-06-13 07:21 |只看该用户

前期烘烤只影响你抽真空的速率，与你镀膜无关，你镀膜时又不烘烤
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塞外居士
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塞外居士

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t T
发表于 2010-06-13 08:57 |只看该用户

这个好像没关系吧
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mastervac
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t T
发表于 2010-06-13 09:04 |只看该用户

当然有影响了
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hzcc
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t T
发表于 2010-06-13 10:22 |只看楼主

镀膜的时候是没烘烤的，如果说影响，想知道是怎么影响的呢？
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sportsdw
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t T
发表于 2010-06-13 12:40 |只看该用户

当然有影响啊，你可以比较一下嘛。
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jonathanhan
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jonathanhan

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t T
发表于 2010-06-13 14:00 |只看该用户

镀膜前烘烤影响的只是真空度和你抽真空的速率，能加速表面吸附气体脱附，对薄膜的沉积应该是没有影响的
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lywzd16
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t T
发表于 2010-06-13 15:34 |只看该用户

烘烤可以除去表面吸附的气体。温度一般有120度左右、200多度、300-350度几个档，分别为除水汽、除其他气体、促进基片表面活化等。
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xiangdongt
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t T
发表于 2010-07-30 17:13 |只看该用户

看你烘烤时间及温度了
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xiangdongt
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t T
发表于 2010-07-30 17:13 |只看该用户

看你烘烤时间及温度了
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linzhirong
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t T
发表于 2010-08-07 11:04 |只看该用户

还会影响表面亮度
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mgwang008
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t T
发表于 2010-08-08 23:28 |只看该用户

原帖由 lywzd16 于 2010-6-13 15:34:00 发表 烘烤可以除去表面吸附的气体。温度一般有120度左右、200多度、300-350度几个档，分别为除水汽、除其他气体、促进基片表面活化等。
\ 说的有道理，对附着力有较大的影响
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