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《应用化学》—含硅化合物多孔膜研究 [复制链接]

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近日,中科院合肥研究院固体物理所的博士研究生杨亚军在其导师孟国文、张立德研究员的指导下,发明了一种合成含硅化合物多孔膜的新方法——多孔硅膜的原位直接转化法。他们利用这种原位直接转化技术,将自制的多孔硅自支撑薄膜分别转化为氮化硅、碳化硅以及硅酸锌等多孔薄膜。研究表明,这些含硅化合物的多孔自支撑薄膜,继承了其母相固体(多孔硅薄膜)的形貌和微结构特征。因此,可以通过控制多孔硅膜制备过程中的腐蚀参数,获得具有所需形貌和结构的多孔硅薄膜;进而采用这种直接转化方法,就可获得比表面积和孔径可调的含硅化合物的多孔薄膜。该项研究成果在过滤、分离、催化、传感器等方面有着潜在的应用前景,已申请我国发明专利,其题为Converting Free-standing Porous Silicon into Si-related Porous Membrane的研究论文,已被德国《应用化学》(ANGEWANDTE CHEMIE.) 接收发表,在征得论文作者同意的前提下,该刊编辑部将其作为热点文章(“Hot Paper”),于11月9日提前发表在该杂志的主页上(http://dx.doi.org/10.1002/anie.200703698)。
 
该项研究得到了国家杰出青年基金、纳米研究重大科学研究计划和中科院百人计划的资助。
来源:中国科学院合肥物质科学研究院
 
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谢谢分享  不错
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非常不错,这个意义挺重大啊
擅长领域:MOCVD,ALD,PLD等薄膜制备技术工艺开发,关注领域LED外延工艺技术与芯片制程技术,MO源合成技术,多晶陶瓷靶材制备技术,热电材料的研究与开发。
欢迎大家加入论坛与我们交流薄膜技术。
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呵呵,我们后段有用porous的材料,作为dielectric之用
From XJTU. Master in thin film area.
Working in SMIC LTD CVD.
Cell-15902122817
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